51吃瓜

1. Hreinsun: ?a ? ?arf a? me?h?ndla hálflei?andi hluta í stofnfríu vinnustofni sem krefst mj?g mikils hreinleikar. ?a ? ver?ur a? stjórna nákv?mlega fj?lda duftsagna í verkst??unni innan ákve?na marka til a? koma í veg fyrir a? dufti? smiti og skemmi hálflei?slu?átta. Mismunu? hreinleikastig á vi? um mismunandi framlei?sluferli, svo sem rannsóknarstofu, rannsóknarstofu og ?róunarstofu og mj?g hreint framlei?slusv??i. Hiti og loftv?gi: Hvítverka hluta me?h?ndlunar hefur einnig nákv?mar kr?fur um hita og loftv?gi umhverfisins. Venjulega skal stjórna hita innan ákve?na marka og for?ast a ? raka sé of hár e?a of lágur. ?hófleg raka getur valdi? yfirbor?smengun á transistorum, sem hefur áhrif á virkni; Hins vegar getur lítil raka valdi? st??ugum rafmagni á yfirbor?i chipsins, sem lei?ir til skemmda á hring. ?ví er mikilv?gt a ? tryggja vi?eigandi hita- og rakumhverfi til a? tryggja g??i og virkni hálflei?slu?átta. ?r?stings- og gashreinsun: Vi? me?h?ndlun hálflei?slu?áttar ?arf a? nota ?msa gasa eins og k?fnunarefni, súrefni, vatni o.s.frv. ?r?stingur ?essara gasa ?arf a? stjórna nákv?mlega til a? tryggja st??ugleika vélarferlins og g??i hluta. ? sama tíma er hreinleiki gassins einnig mikilv?gt til a? for?ast aukaverkanir óhreinleika í gasinu á hálflei?slu?átta St??ug stjórnun: Umhverfi? sem me?h?ndlar hálflei?andi efni hefur mj?g streng kr?fur fyrir st??ugt rafmagn. St??ug rafmagn getur valdi? skemmdum á CMOS samsetningu og ?arf ?ví a? taka árangursríkar rafst??uvarnara?ger?ir í vinnustofunni, svo sem notkun lyfja sem ekki eru st??ug og reglulega hreinsunarbúna?a A?rir breytur: A? auki ofangreinda kr?fur ?arf umhverfi? sem me?h?ndlar hálflei?anda hluta einnig a? stjórna ??rum breytum, svo sem ljósi, hreinum herbergi gegnum sker?ingu vindhra?a o.s.frv., til a? tryggja sléttan framgang me?h?ndlunarferlisins og st??uga g??i hluta.