1) ?istos?: spracovanie polovodi?ov?ch komponentov sa mus¨ª vykon¨¢va? v pr¨¢ci bez prachu, ktor¨¢ si vy?aduje mimoriadne vysok¨² ¨²rove¨¾ ?istoty. Po?et prachov?ch ?ast¨ªc v dielni sa mus¨ª pr¨ªsne kontrolova? v ur?itom rozsahu, aby sa zabr¨¢nilo kontamin¨¢cii a po?kodeniu polovodi?ov?ch komponentov prachu. Rozdielne ¨²rovne ?istoty sa uplat¨¾uj¨² na r?zne v?robn¨¦ procesy, ako s¨² laborat¨®ri¨¢, v?skumn¨¦ a v?vojov¨¦ in?tit¨²cie a ultra ?ist¨¦ v?robn¨¦ oblasti. Teplota a vlhkos?: Spracovanie polovodi?ovej zlo?ky m¨¢ presn¨¦ po?iadavky aj na teplotu a vlhkos? ?ivotn¨¦ho prostredia. Zvy?ajne sa m¨¢ teplota kontrolova? v ur?itom rozsahu, zatia? ?o vlhkos? sa mus¨ª vyhn¨²? pr¨ªli? vysokej alebo pr¨ªli? n¨ªzkej. Excessive humidity may cause surface contamination of transistors, affecting efficiency; N¨ªzka vlhkos? v?ak m??e sp?sobi? statick¨² elektrick¨² energiu na povrchu ?ipu, ?o vedie k po?kodeniu obvodu. Preto je pre zabezpe?enie kvality a v?konnosti polovodi?ov?ch komponentov nevyhnutn¨¦ zabezpe?i? vhodn¨¦ prostredie teploty a vlhkosti. Tlak a ?istota plynu: V procese spracovania polovodi?ov sa musia pou?i? r?zne plyny, ako s¨² dus¨ªk, kysl¨ªk, vod¨ªk at?. Tlak t?chto plynov je potrebn¨¦ presne kontrolova?, aby sa zabezpe?ila stabilita strojov¨¦ho procesu a kvalita ?ast¨ª. Z¨¢rove¨¾ je ?istota plynu rozhoduj¨²ca aj na zabr¨¢nenie nepriazniv?m ¨²?inkom ne?istoty v plyne na polovodi?ov¨¦ komponenty. Statick¨¢ kontrola: prostredie spracovania polovodi?ov?ch komponentov m¨¢ mimoriadne pr¨ªsne po?iadavky na statick¨² elektrick¨² energiu. Statick¨¢ elektrick¨¢ energia m??e sp?sobi? po?kodenie integr¨¢cie CMOS, tak?e v dielnici sa musia prija? ¨²?inn¨¦ elektrostatick¨¦ ochrann¨¦ opatrenia, ako je pou?¨ªvanie antistatick?ch materi¨¢lov a pravideln¨¦ ?istiace zariadenia. ?al?ie parametre: Okrem uveden?ch po?iadaviek mus¨ª prostredie spracovania polovodi?ov?ch komponentov ovl¨¢da? aj in¨¦ parametre, ako je osvetlenie, prierezov¨¢ r?chlos? vetra ?istej izby at?., aby sa zabezpe?il hladk? pokrok spracovania a stabiln¨¢ kvalita ?ast¨ª.